日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
版主: Softfist
#21 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
所有的光学成像系统
这个孔径值是个最重要的指标,这玩意决定了分辨率。你看显微镜镜头,高NA的比低NA的贵很多。 照相机镜头,光圈值小(也就是孔径大的)也是贵很多阿,因为做起来复杂多了,离轴角大 像差就大,就需要更复杂的光学设计 矫正像差。
这个孔径值是个最重要的指标,这玩意决定了分辨率。你看显微镜镜头,高NA的比低NA的贵很多。 照相机镜头,光圈值小(也就是孔径大的)也是贵很多阿,因为做起来复杂多了,离轴角大 像差就大,就需要更复杂的光学设计 矫正像差。
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#22 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
放那镜子就是要消除色差 相差 什的鸟东西 你再来两个光源 全乱了verdelite 写了: 2024年 8月 8日 23:51 我倒是有个想法。其实EUV的光源不需要是点光源。最关键的高精度光学系统只是照亮掩膜到成像到芯片这个过程。而前面照亮的光学系统不需要是高精度的,不是关键的。
如果中国弄的EUV光源不太亮,就多弄几个。两个激光分别打两个靶,两个靶相距1厘米,就可以发出两倍光亮度。再不行就来四个。
#24 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
照明当然很重要verdelite 写了: 2024年 8月 8日 23:51 我倒是有个想法。其实EUV的光源不需要是点光源。最关键的高精度光学系统只是照亮掩膜到成像到芯片这个过程。而前面照亮的光学系统不需要是高精度的,不是关键的。
如果中国弄的EUV光源不太亮,就多弄几个。两个激光分别打两个靶,两个靶相距1厘米,就可以发出两倍光亮度。再不行就来四个。
说实话 我对中国出来的phd阿, 水平真是没信心。 连光刻机 等于一个显微镜倒着用这个本质,都没认识到。
我看那个sam zeloof,高中生,在车库里 用显微镜搭出个小光刻机,一看人家高中生这认知,就比什么中国这些phd强太多了。
说实话的,不知道光刻机怎么搞得,买个高级显微镜 研究研究,看看这照明光路有多复杂。 显微镜物镜镜头。找个高级的那种,大na的,拆开看,测量下几个光学镜片,曲率都是什么。 把这些光学设计参数 就能拿来当光刻机镜头设计的起点。
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#25 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
你这观点跟耗老师一至 耗老师自称做过显微境 就是光刻机专家英亲王阿齐格 写了: 2024年 8月 8日 23:59 照明当然很重要
说实话 我对中国出来的phd阿, 水平真是没信心。 连光刻机 等于一个显微镜倒着用这个本质,都没认识到。
我看那个sam zeloof,高中生,在车库里 用显微镜搭出个小光刻机,一看人家高中生这认知,就比什么中国这些phd强太多了。
说实话的,不知道光刻机怎么搞得,买个高级显微镜 研究研究,看看这照明光路有多复杂。 显微镜物镜镜头。找个高级的那种,大na的,拆开看,测量下几个光学镜片,曲率都是什么。 把这些光学设计参数 就能拿来当光刻机镜头设计的起点。
光学系统是光刻机最容易
看起来最容易的工作台其实才最难 这点耗老师应该没有异议
光源也很难 一个稳定无黑班的光源要几千小时不变。当然耗老师在赛毛 想办法把赛毛的主机硬盘偷走就解决所有问题
#26 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
EUV光刻机和DUV光刻机有所不同,它只能用反射镜。Linjiaojiao 写了: 2024年 8月 9日 00:06 你这观点跟耗老师一至 耗老师自称做过显微境 就是光刻机专家
光学系统是光刻机最容易
看起来最容易的工作台其实才最难 这点耗老师应该没有异议
光源也很难 一个稳定无黑班的光源要几千小时不变。当然耗老师在赛毛 想办法把赛毛的主机硬盘偷走就解决所有问题
#27 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
运动控制的 同步速度 我估计得在ns 级别吧。Linjiaojiao 写了: 2024年 8月 9日 00:06 你这观点跟耗老师一至 耗老师自称做过显微境 就是光刻机专家
光学系统是光刻机最容易
看起来最容易的工作台其实才最难 这点耗老师应该没有异议
光源也很难 一个稳定无黑班的光源要几千小时不变。当然耗老师在赛毛 想办法把赛毛的主机硬盘偷走就解决所有问题
mask和wafer 一起动,这个同步很吓人的。
一般的cnc 机床,那个运动控制的反馈是在ms级别,也就是每ms测一下位移和速度,然后反馈到驱动电机上,控制电机的驱动电流 频率 电压。
要想做到nm级别的同步精度,我估计激光干涉仪 得做到ns级别的读取吧,然后整个反馈控制 肯定是ns级别的,估计都是asic 硬实现 。
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#28 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
Mask不动英亲王阿齐格 写了: 2024年 8月 9日 00:18 运动控制的 同步速度 我估计得在ns 级别吧。
mask和wafer 一起动,这个同步很吓人的。
一般的cnc 机床,那个运动控制的反馈是在ms级别,也就是每ms测一下位移和速度,然后反馈到驱动电机上,控制电机的驱动电流 频率 电压。
要想做到nm级别的同步精度,我估计激光干涉仪 得做到ns级别的读取吧,然后整个反馈控制 肯定是ns级别的,估计都是asic 硬实现 。
最难是193工作台 运动极快
EUV扫描慢 稳定要求更高
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#32 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
确实很牛逼,请问那是 duv 还是 euv? 甩鳖国国产光刻机几条街?
英亲王阿齐格 写了: 2024年 8月 8日 23:59 照明当然很重要
说实话 我对中国出来的phd阿, 水平真是没信心。 连光刻机 等于一个显微镜倒着用这个本质,都没认识到。
我看那个sam zeloof,高中生,在车库里 用显微镜搭出个小光刻机,一看人家高中生这认知,就比什么中国这些phd强太多了。
说实话的,不知道光刻机怎么搞得,买个高级显微镜 研究研究,看看这照明光路有多复杂。 显微镜物镜镜头。找个高级的那种,大na的,拆开看,测量下几个光学镜片,曲率都是什么。 把这些光学设计参数 就能拿来当光刻机镜头设计的起点。
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为美国献治安策:以工代赈和劳改制度。
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#34 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
当年我说党妈的ArF准分子激光器功率不足,
耗子立马挖坑我说可以用几个激光器提高亮度
这不就是你这方法么
LOL
真可行么?
耗子立马挖坑我说可以用几个激光器提高亮度
这不就是你这方法么
LOL
真可行么?
verdelite 写了: 2024年 8月 8日 23:51 我倒是有个想法。其实EUV的光源不需要是点光源。最关键的高精度光学系统只是照亮掩膜到成像到芯片这个过程。而前面照亮的光学系统不需要是高精度的,不是关键的。
如果中国弄的EUV光源不太亮,就多弄几个。两个激光分别打两个靶,两个靶相距1厘米,就可以发出两倍光亮度。再不行就来四个。
#35 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
小孔成像的孔径就是小孔的直径吧,早被淘汰了。英亲王阿齐格 写了: 2024年 8月 8日 23:36 这种分辨率的光学成像系统,景深是非常小的,肯定是几纳米级别的景深。
这个简化版光学系统,无非是减少光圈(减少光学系统设计的复杂度),但这是有代价的,光刻胶必须一定剂量的光子才能曝光。这种简化版光学,最简单版本就是小孔成像,一个很小孔就可以,不需要什么透镜这种光学器件。
当然问题是,光通量太小,曝光时间太长。 再加上几纳米景深,这个就对减震系统和运动控制系统这些机械部件的要求太高了
拿钱发帖带节奏的死全家
#36 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
你学过光学没有?小孔成像的理论景深是无穷大英亲王阿齐格 写了: 2024年 8月 8日 23:36 这种分辨率的光学成像系统,景深是非常小的,肯定是几纳米级别的景深。
这个简化版光学系统,无非是减少光圈(减少光学系统设计的复杂度),但这是有代价的,光刻胶必须一定剂量的光子才能曝光。这种简化版光学,最简单版本就是小孔成像,一个很小孔就可以,不需要什么透镜这种光学器件。
当然问题是,光通量太小,曝光时间太长。 再加上几纳米景深,这个就对减震系统和运动控制系统这些机械部件的要求太高了
#37 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
你学过语文没有
"这种简化版光学系统的
最简单形式是小孔成像"
我说这个带几个反射镜的简化版 是小孔成像了?
我说的最简单的形式是小孔成像
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#38 Re: 日本科学家开发出简化的EUV光刻机,可以使芯片的生产大大降低
当然可以通过几个激光器并联提高功率
光纤激光就是这么搞得
但需要复杂的光学系统把光源并联起来。
Euv波段的问题是, 光学系统效率太低, 镜子反射面最高效率也只有百分之70。 多增加的光源 可能被多增加光学系统的损耗 给抵消了。
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