新未名空间

konichiwa 写了： 2022年 11月 30日 15:30 https://patents.google.com/patent/CN101592784A/zh

给非光刻机专业的外行科普一下专业背景。
三年前，弃婴大师提出，可以用加速器产生的射线来做光刻机。
这种加速器发出的射线是比激光波长还要短的光。可以制作1纳米芯片，从而实现弯道超车
考虑到中国加速器物理的发展走在了世界最前列，人才济济，技术储备雄厚。

但谢博士指出了，高纯度加速器射线是相干光。不能用来做光刻机

原因在于，杨氏双缝实验。
激光通过一个小缝，会产生水波状的条纹，整个芯片就废了
所以需要对加速器产生的射线进行退相干


现在这个最后的技术难题被中国科学家攻克了
可以通过抖动激光光源来实现退相干
根据这个专利，在加速器光源上，安装抖动器，让光线抖动，这样就能实现芯片的均匀曝光!

给大家举个例子。你如果在田里撒豆子，撒的不均匀，怎么办，就随机多撒几次，就均匀了。

hhcare 写了： 2022年 11月 30日 15:45 这还用攻克？！
这是well known 的消除speckle的方法。

hhcare 写了： 2022年 11月 30日 15:49 euv 很难吧， 要通过介质， 有损耗。

konichiwa 写了： 2022年 11月 30日 15:53 EUV为什么不容易退相干？
这是不是目前光刻机最大挑战？

konichiwa 写了： 2022年 11月 30日 15:48 有没有非机械抖动的方法退相干？

Bluesky 写了： 2022年 11月 30日 18:25 可以试试压电陶瓷。非机械抖动的办法很多的。

srx 写了： 2022年 11月 30日 16:20 你说的加速器产生的同步辐射？那不是X射线吗

Bluesky 写了： 2022年 11月 30日 18:25 可以试试压电陶瓷。非机械抖动的办法很多的。

konichiwa 写了： 2022年 11月 30日 15:53 EUV为什么不容易退相干？
这是不是目前光刻机最大挑战？

verdelite 写了： 2022年 11月 30日 18:35 EUV不能用透射技术，只能用反射技术。

konichiwa 写了： 2022年 11月 30日 21:50 把反射镜做粗糙一点不就解决了吗？