#1 耗子老师好消息: 国产光刻机确认做不了双重曝光 生产不了28nm芯片!
发表于 : 2024年 9月 16日 21:45
耗子看不懂,怎么办?
还确实是这么回事
大神你帮忙看看这个截图里说的东西符合国内研发人员水平吗? 有明显错误吗?
牛人
一个镜片
我觉得你也是牛人 高屋建瓴 光刻机研发活字典Linjiaojiao 写了: 2024年 9月 16日 22:07 牛人
只有九十年代做光刻的人才会产生这种想法 193nm应该在九十年代中 ready 结果推迟十年就是因为功率不够
弃大侠若没有这经历能产生这想法 比耗老师牛多
开始马后炮了 之前怎么没听你说过有ArF功率不足的瓶颈导致65nm光刻机做不了28nm
这文章很客观
现在DUV有29个镜
那就是说为了降低激光能量损耗 扣掉了16个镜片 能补偿40%左右的能量损失, 但是同时导致NA只能做到0.75
啥叫perf review 我英语不好 你别欺负我
基本上是这样 非光学专业人士